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全透明无铬移相掩模实现100纳米图形加工的方法

2005年 应用技术
  • 成果简介
一种采用全透明无铬移相掩模实现100纳米图形加工的方法，具有优化处理的掩模图形数据；合适的掩模图形曝光工艺；合适的显影条件；严格控制铬模腐蚀条件；曝光后的掩模处理工艺；选择干法刻蚀的移相器制作工艺，合适的移相层厚度的确定等特点，且采用g线436nm波长的光源制备出分辨率高的100nm图形。本发明方法，大大提高了g线436nm波长光源的曝光分辨率，使得我们在没有昂贵的193nm波长光源的光学...
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