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基于硅衬底无牺牲层的非制冷红外焦平面阵列的制作方法

2006年 应用技术
  • 成果简介
一种基于硅衬底无牺牲层的非制冷红外焦平面阵列，其与反光板连接的悬臂梁固支在利用各向同性腐蚀出的近似楔型硅柱上，其阵列中单元结构分为独立式和嵌套式。该非制冷红外焦平面阵列器件的工艺步骤如下：
1、在<100>硅基片上淀积氮化硅薄膜；
2、在正面氮化硅薄膜表面光刻，表面淀积铬薄膜，剥离；
3、刻蚀氮化硅薄膜，去铬，清洗处理表面；
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