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一种适用于台阶结构的自对准掺杂工艺

2006年 应用技术
  • 成果简介
　　本发明涉及光通讯系统技术领域，特别是一种适用于台阶结构的自对准掺杂工艺。包含以下步骤：（1）生成第一掩模层；（2）刻蚀形成台阶结构；（3）生成第二掩模层；（4）各向异性刻蚀第二掩模层；（5）形成掺杂区。
　　在所述自对准工艺中，由于刻蚀所述第二掩模层时的各向异性，所述台阶的侧壁仍被掩蔽，而所述台阶上部被所述第一掩模层所掩蔽，因此所述台阶边缘与所述掺杂区边缘的间距取决于侧壁上第二掩模...
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