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光电容法确定半导体量子点电荷密度的方法

2005年 应用技术
  • 成果简介
  本发明涉及半导体技术领域,特别是半导体低维量子结构中量子点的光电容法确定半导体量子点电荷密度的方法。通过选择光激发下电容-电压测量,利用低维半导体结构内部两层之间电子态隧穿耦合引起的光电容特征结构,来确定量子点电荷密度。对半导体量子点器件的研制、开发和应用具有重要意义。
  对于含量子点的半导体多层异质结构,在选择光激发条件下,通过常规电容-电压测量,利用量子点和另一限制层(量子阱...
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