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镜像电荷效应量子元胞自动机的制作方法

2005年 应用技术
  • 成果简介
一种镜像电荷效应量子元胞自动机的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：在衬底上形成一个厚度可以控制的绝缘层；用晶片键合工艺将半导体层键合到带有绝缘层的衬底上；利用智能切断或研磨等工艺将半导体层减薄到100nm以下的厚度；按量子元胞自动机器件和电路的要求，采用刻蚀工艺将半导体层刻蚀成量子点阵列，该量子点阵列包括多个元胞单元，每一元胞单元包括四个量子点；采用氧化和淀积工艺在量子点周围形成氧化层，...
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