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多弧磁控溅射复合离子镀膜技术

2007年 应用技术
  • 成果简介
多弧磁控溅射复合离子镀膜技术是一种新型的真空离子镀膜技术，它把多弧和磁控溅射两种技术有机地结合在一起，来获得性能更为优异的硬质膜和装饰膜。它的基本原理是：在真空室中利用弧光（或辉光）放电所产生的能量将靶材（钛等金属或合金）直接蒸发（或溅射）离化生成金属离子，并通过电场进行加速与反应气体生成金属化合物，最后沉积在工件表面。与通常的离子镀膜方法相比，除可镀制单一的膜层外（如TiN），还可镀制各...
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