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一种磁性微结构的制作方法

2007年 应用技术
  • 成果简介
　　本发明涉及一种磁性微结构的制作方法，其特征在于包括多层模具的制作和磁性微结构制作两部分。前者包括用标准RCA清洗工艺清洗硅片，在硅片表面甩涂多层SU-8光刻胶，前烘，光刻，后烘显影得到多层SU-8模具；然后本发明通过在多层模具中直接填充磁性粉末，在PDMS芯片铸模成型的同时，在芯片内部形成磁性微柱结构。利用所提供的制作方法，可以省却电镀工艺，在微流体芯片内快速制作磁性微结构。制作微结构高度在几...
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