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用于测量光刻机像场弯曲分布的装置和方法

2006年 应用技术
  • 成果简介
本发明公开了一种用于测量光刻机像场弯曲分布的装置，包括一投影透镜；一掩膜板，其上具有按一定空间分布的狭缝阵列；一基板，安装有光探测器阵列；所述光探测器阵列的上部覆盖有一层不透明的覆盖层，并在该覆盖层对应于光探测器阵列中每一个光探测器的光敏感区域的位置上各制作一狭缝；所述圆形基板上还包括有一数据采集和处理器及一传送系统。本发明还公开了一种使用上述装置对光刻机像场弯曲进行测量的方法，通过让硅片...
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