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金刚石薄膜

2007年

应用技术

成果简介

　　我校利用热灯丝CVD、微波等离子体CVD等方法在Si单晶、Ni、Wc等衬底材料上成功的合成出了金刚石薄膜。经Raman谱、X-光衍射、SEM等分析表明其成份是金刚石，与天然金刚石完全类似。金刚石膜的性质与天然金刚石十分接近，其硬度达10000kg/mm^2（维氏硬度），电阻率接近1012Ω/cm，并耐高温、防腐蚀、抗辐射，可广泛用于机械、电子、光学、航空航天等工业部门。通过适当掺杂可成为半导体...

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