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含铬DLC薄膜的新型沉积设备利制备工艺

2007年 应用技术
  • 成果简介
将封闭场非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射、离子辅助溅射和脉冲工件负偏压结合在一起，研制出新型中频对靶磁控溅射系统；揭示了磁控靶电压波形、脉冲等离子体参数和合成的类金刚石（DLC）薄膜结构及性能的关联性，通过掺入Cr元素来降低DLC薄膜的内应力和改善其附着力，利用研制的镀膜系统合成了含铬DLC薄膜，并对含铬DLC膜的摩擦磨损性能进行了系统表征。本项目建立了制各优质薄膜所需的中频对靶磁控溅射系统利...
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