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闭合场非平衡磁控溅射离子镀膜装备及技术

2007年 应用技术
  • 成果简介
本项目以西安理工大学与英国锑尔镀层公司共建的中英先进镀层实验室为依托，以满足我国制造业对高品质镀膜设备的巨大需求为目标，以在国内建立闭合场非平衡磁控溅射离子镀膜设备研发技术平台为目的，研究先进镀层设备和技术的国产化，并利用此国产化设备进行工艺开发。
　　所研发的闭合场非平衡磁控溅射离子镀膜设备和技术处于国际领先水平，该设备具有处理工件尺寸大，数量多，效率高，镀层制备灵活，成本低...
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