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真空离子镀膜技术

2007年 应用技术
  • 成果简介
　　一、项目简介
　　离子镀膜是国外70年代以来趋向商业成熟的一种新技术。其原理是在高真空内用等离子电子束使欲镀物质熔化，蒸发原子在电场下离子化，向金属零件表面轰击而沉积于表面，若同时通入某种气体，则可形成化合物镀层。
　　镀层厚度5μm，保持零件原有光洁度和尺寸精度，其硬度与耐磨性随膜层种类而异。如为TiN膜，硬度可达HV2000左右。
　　二、应用范围
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