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多靶磁控溅射系统

2007年 应用技术
  • 成果简介
用于制备各种金属、合金薄膜及氮化物、氧化物、碳化物等硬质薄膜（如TiN，SiC），光学薄膜可精确控制合金成分。
该系统具有以下特点：①靶材料利用率高；②薄膜均匀性好；③性价比良好。其核心部件——等离子体源技术达到国际先进水平。整套设备的整体性能达到国外设备水平，而价格却大为降低。可以改变国内此类产品高端设备依赖进口的现状，市场良好。...
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