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ZnO薄膜生长用MOCVD设备

2007年 应用技术
  • 成果简介
　　通过与沈阳市超高真空应用技术研究所合作，研制了一台添加了射频等离子源的专门用于ZnO薄膜生长的MOCVD设备。
　　本实用新型的优点是可提高ZnO薄膜生长质量和均匀性，有利于p型或高阻掺杂。申请的实用新型专利已转让给沈阳市超高真空应用技术研究，该研究所已将本技术成果推向定型生产，迄今已销售了3台这种新型ZnO薄膜生长的MOCVD设备，总产值210万元，增加利税42万元。该设备经用户...
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