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PS11-IM全方位离子注入增强沉积工业样机

2007年

应用技术

成果简介

　　全方位离子注入增强沉积装置属新材料技术领域用于材料表面改性的等离子体应用装置，“八五”、“九五”期间成功开发了PS11-EX原型机和PS11-IM工业样机。
　　PS11-EX装置的主要技术指标为：真空室尽寸ф500×1000nm，静压强＜2×10^4Pa，气体等离子体密度108～1010cm^3，注入离子能量10～50keV，可利用蒸发或溅射进行涂层沉积。
　　PS1...

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