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金刚石膜制备技术

2007年

应用技术

成果简介

人造金刚石目前多用高压（＞10^4大气压）高温（＞1500℃）合成，成本高技术复杂，而且合成的是微粒，不能成膜，限制了它的应用。我们开发了在低温（＜950℃）低压（＜十分之一大气压）下，用热解化学气相沉积（CVD）或电子增强CVD技术生产金刚石膜。膜特性如下：硬度9000（维氏），导热率11W/cm·K，电阻率约10^(11)Ω·cm，面积（直径）3英寸以上。
金刚石膜...

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