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CVD、PCVD、PECVD化学气相沉积设备

2007年

应用技术

成果简介

　　制备非晶硅薄膜，用以制造太阳能电池。
　　真空度：主沉积室＜7×10^(-5)Pa 进出片室＜7×10^(-4)Pa，真空度可调
　　样品尺寸：220×220
　　温度：350℃，可控可调
　　RF电源：f=13.56MHZ 300～1000W
　　结构：七个矩型真空室，500×450×300，样品交接取放自动控制。...

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