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PCVD-300等离子体化学气相沉积设备

2007年

应用技术

成果简介

　　制备非晶硅太阳能电池，各种非晶硅膜、多晶态膜、钝化膜、硬化膜、金属膜及其它金属有机膜，处于国内领先水平。
　　主要技术指标：
　　真空度：掺杂室6×10^(-5)Pa，进片室2.6×10^(-4)Pa，工作真空可调；
　　样品尺寸：100×100；
　　衬底温度：400℃，可调；
　　RF电源：f=13.56MHZ、300W；

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