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高真空硬碳膜沉积设备

2007年 应用技术
  • 成果简介
主要由沉积室、射频电源、基片台、电极、真空获得及测量系统、电控系统、电磁线圈及气路系统等组成。
主要技术性能指标
1、 极限真空：优于5×10^(-4)Pa；
2、 真空室尺寸：Ф600×500（mm）为圆筒形立式全不锈钢结构；
3、 电磁线圈场强为0～250Gs。
4、 基片尺寸、数量：最大Φ200mm、一块；
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