国家科技成果网
热门搜索:  激光   高分子   石油   并网   纳米   太阳能光伏
扫描二维码关注国科网

国家科技成果网 首页 成果 查看内容

电子束缩小投影光刻关键技术研究

2007年 应用技术
  • 成果简介
对SCALPEL掩模制作工艺进行深入的理论与实验研究,摸索出一套比较稳定的工艺条件,并对掩模制备应力的控制;掩模曝光时的电子积累效应问题,掩模背腐蚀时的薄膜应力释放问题;膜厚不同对反差和透射率影响的问题都进行探索和实验研究。总结出了一套解决方案,最后用剥离工艺研制出了0.1微米线宽的SCALPEL掩模,为掩模中心的建立提供了强有力的技术保障,为制备实用化的SCALPEL掩模打下了坚实的基础...
相关成果

标签云

相关机构

Copyright 2001-2020 All Rights Reserved© 国科网 版权所有
国家科技成果信息服务平台 主管单位:科学技术部火炬高技术产业开发中心
京ICP备09035943号-33 京公网安备110401400097
在线客服系统