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纳米SiO2化学复合镀镍工艺

2007年

应用技术

成果简介

工艺简介：
该Ni–P–纳米SiO_2化学复合镀工艺稳定性好，纳米SiO_2微粒在镀液中分散均匀，在pH4.1～4.6，温度85～90℃范围内所得Ni–P–纳米SiO_2化学复合镀层按QB/T3823–99试验孔隙率为零。热震试验和弯曲达到GB/T13913–92质量要求。可明显提高电镀铜—镍—铬组合镀层的耐蚀性能。
市场分析：
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