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基于RE-GMF材料应用元器件的开发与应用

2007年

应用技术

成果简介

　　本课题组采用离子束溅射(IBS)和磁控溅射(MS)的方法分别制备出了高性能的TbDy-Fe与Sm-Fe两种正负磁伸薄膜及其复合功能膜材料；并通过采用多种测试技术对不同制备方法下RE-GMF的制膜工艺参数、基片材料、溅射沉积速率、膜材表面形貌、薄膜成分、组织结构、膜—基结合强度、内应力、膜材磁伸性能及热处理对膜材磁伸性能的影响、膜材表面保护等方面进行了较为系统的研究。
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