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金刚石膜沉积过程中的等离子体状态和金刚石电子基板的研究

2000年 基础理论
  • 成果简介
金刚石具有极好的力学、热学和电学性能，在高技术和工业领域有广阔应用前景。八十年代初，低气压下气相合成金刚石薄膜取得了突破性进展，改变了人们原有的观念，在碳的相图上一个长时间被公认不可能形成金刚石的参数范围内，从实验上合成了金刚石，因而对其反应机理的研究和对膜合成技术研究一样，引起了人们的极大兴趣。我们在国家自然科学基金（含863新概念）的支持下，开展了等离子体化学气相沉积（PCVD）金刚石...
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