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SJG高阻靶材和SJZ中阻靶材

2007年

应用技术

成果简介

采用先进配方和制备工艺生产大尺寸高硅含量用于电阻工业的金属膜、金属氧化膜系列电阻靶材，用该靶材溅射的电阻符合ISO-9000和国标及企业标准，已用于长虹等国产名牌彩电上。
应用领域：金属膜电阻器、金属氧化膜电阻器磁控溅射。
技术指标：长靶：380×127×12+1 中阻阻值＜100Ω，TCR＜50PPm/℃
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