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移动掩模法制作连续浮雕微透镜列阵

2000年

应用技术

初期阶段

成果简介

本项目属中国科学院知识创新工程项目－微阵列光学技术及其应用研究下的子课题“微阵列光学技术与工艺”。
本项目针对科学领域对连续浮雕微透镜列阵（CMLA）的需求，提出和研究了制作CMLA的新方法－移动掩模连续光刻技术。该方法采用投影光刻或接近接触式光刻设备，通过对掩模结构的特殊设计、曝光过程中掩模的位移控制、及光刻材料功能和体系的设计，达到二元图案向连续曝光分布转化的目的，...

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