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离线对准系统

2000年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
该项目由中科院光电技术研究所为中国科大国家同步辐射实验室研制的,用于国家同步辐射实验室二期工程LIGA站X射线光刻制作微电子机械系统的关键光刻设备。
  1.系统工作原理及基本组成
  本系统对准流程是以硅片为基准,硅片固定于刚体上不动;调节目视及电视测量运动台(X,Y,Z,q),使硅片上的两个标记成像清晰并分别尽量调入电视视场中心(±0.002mm),再沿光轴微量...
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