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真空镀SiO_x高阻透薄膜

2000年 应用技术
  • 成果简介
镀SiO_x高阻透薄膜是九十年代出现的新型高阻隔包装材料。与目前市场上的高阻隔材料相比，具有阻隔性能优良、透明度高、保香性优良、耐蒸煮、具有良好的微波透过功能，能回收利用，无公害，是理想的环保产品。该技术成果利用硅棒连续供料和在真空条件下利用激光电子束加热熔化SiO_x技术、化学等离子体气相淀积技术，较好地解决了低温、低真空镀SiO_x膜的连续性生产问题，降低了生产成本（产品远低于进口产品...
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