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6英寸芯片工艺技术转移及量产中的微分析服务

1999年

应用技术

成果简介

国家微分析中心为上海先进半导体制造有限公司(ASMC)提供了该公司引进的6英寸芯片的自对准CMOS+EEPROM工艺技术(AM19)、双层金属1μmCMOS工艺技术(C200DM)和双层多晶、双层金属1.08μm工程技术(CMOS422)这三个工艺全工程的微分析测试和服务，并派员参与该工艺转移和可靠性分析工作。这些微分析服务准确，快速反映了6英寸IC芯片在各工艺过程中芯片形貌和工艺测试结果，支持了...

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