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直流等离子体CVD金刚石薄膜涂层设备

2004年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
该项目组通过设计、研制新型的关键设备--等离子体炬，解决了直流电弧等离子体CVD(化学气相沉积)喷射法均匀沉积大面积金刚石薄膜涂层的难题。成功地在直径为Φ190mm的面积内以8-10微米/小时的沉积速率，均匀沉积出了金刚石薄膜，其均匀性误差<10％。该项目对中国金刚石涂层工具的研究、开发和制造起到极大的推动和促进作用。达到国内领先水平。...
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