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高稳定的薄膜固定电阻器磁控溅射中高阻靶材

2004年

应用技术

中期阶段

成果简介

靶材光滑平整无缺陷，尺寸382×128×14mm^3；金属膜电阻器的阻值范围100Ω-30kΩ，TCR小于28ppm/℃，高温储存实验，155℃，1000h，ΔR≤0.4203%R，寿命试验ΔR≤0.1706%R，耐湿实验ΔR≤0.6212%R。
中高阻磁控溅射靶材可代替进口，且价格大大低于进口材料，有较大的经济效益和社会效益。...

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