首页成果登记
注册 找回密码
国家科技成果网
  		•
热门搜索：  激光   高分子   石油   并网   纳米   太阳能光伏
扫描二维码关注国科网

登记 排行 政策 对接 转化 专栏
国家科技成果网 › 首页 ›成果 › 查看内容

5-7英寸匀胶溅射铬版

2005年 应用技术
  • 成果简介
1、成果内容简介：该专题的目标旨在研制5-7in匀胶溅射铬版的制造技术，并形成千片级生产能力，使中国铬掩摸材料能满足“八五”期间IC2-3微米技术的要求，并为后期大批量生产的技术改造提供技术保证。通过4年多的不懈努力，掌握了大尺寸基片的加工和磁控溅射成膜技术的关键，使中国硬面光掩模材料的制造水平上了一个新台阶。今后可为中国IC行业提供大尺寸规格局质量的新型硬面光掩模材料。同时利用该专题的攻关成果，...
相关成果

标签云

相关机构

关于国科网   我们的资源   我们的服务   免责声明   常见问题    软件下载    成果登记   联系我们  
Copyright 2001-2020 All Rights Reserved© 国科网 版权所有
国家科技成果信息服务平台 主管单位：科学技术部火炬高技术产业开发中心
京ICP备09035943号-33 京公网安备110401400097
在线客服系统