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溶胶凝胶光诱导制列阵波导光栅

2003年 应用技术
  • 成果简介
该成果以单晶硅为衬底，在其上顺次生长下包层、波导芯层、上包层；在波导芯层，经调制溶胶-旋涂-烧结-掩膜-光诱导过程制作AWG图形。调制溶胶是将正硅酸乙酯、乙醇、盐酸混合加入含Sn先驱体，经陈化、过滤制得溶胶；将溶胶涂覆在下包层上旋转均匀；烧结温度400℃；光诱导是用紫外光照射掩膜板，使透光部分的含Sn的SiO_2膜的折射率发生变化形成波导。该成果容易控制波导芯层的掺杂量及厚度；省去昂贵的反应离子刻...
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