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多功能大型直流磁控溅射设备的研制

2001年

应用技术

成果简介

该项成果是对Φ450型热蒸发镀膜机的改造更新，使其成为大型多功能综合制膜设备。它主要以直流磁控溅射成膜工艺为主，兼有热蒸发、热丝法PCVD、CVD及离子辅助溅射沉积(IAD)制膜工艺。其主要技术说明及指标：1、采用新型电控器件重新设计了系统控制电路，使系统更加安全可靠运行。2、设计加工了大功率直流磁控溅射电源，使其能满足工艺需要。3、采用新型耐高温钐钴磁铁设计磁控溅射靶，提高溅射靶表面的磁场均匀度...

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