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激光化学气相表面沉积

2001年 应用技术
  • 成果简介
CVD法是在真空条件下,通过高温化学反应在基体上制得金属或化合物薄膜的方法,可作为金属材料表面的硬化处理,沉积下的TIC薄膜硬度高达HV3300-4000,TIN薄膜为HV2000-2400,远高于各种工具钢和硬质合金的硬度,可大大提高工模具钢的耐磨性和使用寿命。LCVD是利用高能束激光作为加热热源的气相沉积技术,可保持基体热处理淬火硬度的基础上,进一步提高表面硬度。...
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