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低杂质稳定氧化锆原料的研究

2001年 应用技术
  • 成果简介
该成果是关于制取低杂质稳定氧化锆原料的技术，以锆英石精矿为原料，加脱硅复合还原剂、稳定剂等，经电弧炉一次熔融脱硅稳定并除铁、钛，制取低杂质稳定氧化锆。工艺过程简单可靠，易于控制，成本低廉。采用复合脱硅还原剂技术，还原剂引入方法，除铁、钛技术，化学成份控制技术等关键技术。解决了配合料熔化前的预处理、稳定剂的高温烧失问题和理论加入量与实际配比的关系、脱硅还原剂的选择和加入量及脱硅效率、熔化工艺，电工参...
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