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金刚石膜技术

2001年 应用技术
  • 成果简介
该项目研究开发的高功率DC Arc Plasma Jeet CVD金刚石膜沉积系统设备采用了独特的大口径直流磁控长通道炬专利技术，成功地解决了大面积电弧放电等离子体的空间温度和成分分布的均匀性难题，从而保证了大面积金刚石膜的高速均匀沉积。该技术实质上是工具级和热沉级金刚石厚膜的工业化生产技术，包括所需要的生产设备和生产工艺。其中所涉及的100千瓦级高功率系统是一种金刚石膜大规模工业化生产设备，可用...
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