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低成本高质量金刚石膜生长技术及热学方面应用

2001年 应用技术
  • 成果简介
取得的主要成果有：表面改性石墨作原料的高压金刚石合成方法；单晶硅上大面积(100)取向的金刚石膜的生长专利，为金刚石膜在电子学领域的应用打下良好基础；金刚石厚膜的制备及应用研究，用直流热阴极PCVD和电子增强CVD方法制备大面积金刚石厚膜，实现了大面积金刚石厚膜的快速生长；用金刚石膜制作SOI结构的抗辐射半导体材料；用于沉积大面积金刚石膜的灯丝排布固定装置，适合长时间使用制备大面积金刚石膜；热阴极...
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