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多源磁控溅射镀膜设备

2003年 应用技术
  • 成果简介
项目介绍：该系统是用于真空镀膜的设备。该中心在传统磁控溅射设备的基础上改进的新型镀膜系统，改单靶溅射为对靶溅射，节省了靶材，提高了材料的利用率。同时在直流电源基础增加了射频电源，使该系统既能镀导体膜，又可镀绝缘膜。形成了“低温、高效、省材料、多功能”等优点。在以磁控溅射法镀膜的设备中，它处于国内领先地位，达到国际同类产品的先进水平。市场预测：主要用于制备新型薄膜材料，如半导体膜、光学膜、磁性膜等。...
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