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MIP系列多功能离子镀膜技术与设备

2001年

应用技术

成果简介

MIP系列多功能离子镀膜设备采用低电压大电流真空阴极放电技术，直接将阴极材料(被蒸发材料)蒸发并离化，形成高度电离心等离子体束。这些高能离子，在工件偏压的作用下，沉积在工件表面上，生成各种金属薄膜，当通入反应气体，如氮气、乙炔气，可以生成各种氮化物或碳化物薄膜(如TiN、CrN、TiAlN、ZrN、TiC、TiNC等)，牢固地涂敷在工件表面上。电弧离子镀具有电离度高，产生的粒子能量高，沉积速率快，...

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