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多功能薄膜制备与加工设备

2003年 应用技术
  • 成果简介
该设备将真空镀膜领域的磁控溅射、热蒸发、离子刻蚀和离子溅射结合到一起，使其同时具四项功能。设计上采用双室结构，可制备半导体材料。采用磁力传递机构，可直接将样品送入离子刻蚀室。该设备系国内首创，自行设计研制，独家生产。水平居国内领先、国际先进。 制备新材料薄膜，可广泛应用于航天、航空、汽车、半导体等高科技领域；也可用于民用品的生产加工。前景及经济效益：近年来新材料的开发研制方兴未艾，许多工业发达国...
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