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磁控溅射真空镀膜设备

2002年 应用技术
  • 成果简介
产品功能及应用领域：主要用于制备新型薄膜材料，如半导体膜、光学膜、磁性膜等。可广泛应用于高速计算机、微波通讯、光通讯、信号处理和雷达系统等领域。技术特点：改单靶为对靶溅射，节省了靶材，提高了材料的利用率。同时在直流电源的基础上增加了射频电源，使该系统既能镀导体膜，又可镀绝缘膜。与国内外同类产品比较：该项目已经通过技术鉴定，质量稳定、技术先进，经过用户多次使用，深受欢迎。处于国内领先地位，达到国际同...
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