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无掩模激光干涉光刻研究

2005年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
随着大规模集成电路技术的发展，传统投影光刻技术的分辨极限受到光刻物镜的数值孔径和曝光光源波长的限制。无掩模激光干涉光刻技术是集激光技术、干涉和衍射光学及光学光刻于一体的新型光刻技术，其主要特点在于用多束相干激光束的组合干涉和采用多次曝光方法产生微米和纳米级周期图形阵列，其图形极限尺寸达四分之一曝光波长，是其它方法难以实现的。
“无掩模激光干涉光刻研究”是国家自然科学基金...
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