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磁控电子回记在等离子体化学气相沉积技术研究

1998年 应用技术
  • 成果简介
直流等离子体化学气相沉积(简称DC-PCVD)技术是近十几年来采用的一种真空镀膜技术，它是在化学气相沉积(CVD)技术的基础上，引入辉光放电产生的等离子体而形成的气相沉积新技术。但DC-PCVD其反应气体离化率较低，化学反应不完全，副产物较多，使直倥沉积室的清洁量增大，同时对真空系统产生污染和腐蚀。为此，该2研制成磁控电子回旋等离子化学沉积技术，即MEC-DC-PCVD技术，它是在DC-PCVD技...
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