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脉冲多弧离子源

2001年 应用技术
  • 成果简介
脉冲多弧离子源是脉冲离子镀设备的关键设备装置，把该离子源装在真空室内，就构成脉冲多弧离子镀设备，其工作原理是基于冷阴极真空电弧放电。脉冲多弧离了源具有引弧效率高，放电稳定。结构简单、操作方便等特点。脉冲多弧离子源的研制成功。使西安工业学院成为国家首家拥有该项自主创新知识产权的单位，在该基础上又与白俄罗斯协手合作开展技术引进，进行类金刚膜镀制的深入研究。应用脉冲多弧离子镀技术能镀制类金刚膜、氮化钛、...
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