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多离子束反应共溅射(MIBRECS)

2001年

应用技术

成果简介

根据离子束溅射的优点及制备多组元薄膜需精确控制各组元成份的要求，该校于1986年提出了发展多离子束反应共溅射(MIBRECS)的设计思想，获“八六三”支持后，设计、加工、调试了装置，发展了相应技术，用以制备了完全取向的PbTiO_3(PT)、(Pb，La)TiO_3(PLT)等铁电和电光薄膜，申请了两项国家发胆专利。国外1988年11月才在区域性会议上报导类似装置，配小口径离子源(Φ30mm)时报...

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