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半导体测试技术中四探针理论与应用

2006年 基础理论
  • 成果简介
技术领域：
集成电路生产中扩散片、原始硅片的电阻率微区分布测量，以及各种材料的微小样品的电阻率测量。
背景与意义：
随集成电路的发展，图形线宽、特征尺寸已达0.1微米，对材料的电阻率均匀性要求越来越高。迫切需要能分辨0.3毫米以下的微区电阻率。但是目前广泛使用的直线或方形四探针，只能分辨3毫米以上区域的均匀性。经多年研究，我们提出...
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