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基于近场激发和增强的新型纳米薄膜结构研究

2006年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
本项目提出并发展了基于Bi、AgInSbTe、Ti等的新型超分辨掩膜结构，静态激光记录点最小可缩小到不通过掩膜时的20%，刻蚀线宽可以缩小到不通过掩膜时的60%以下。与传统掩膜相比，具有光斑压缩效率高、刻蚀功率低、热损伤小等优点。将新型掩膜结构应用于只读式超分辨光盘，可获得最高达43dB的动态读出信噪比，接近实用化水平。与传统的超分辨近场结构光盘相比，具有盘片结构简单、厚度容差大、工艺简单...
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