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脉冲激光溅射合成晶态氮化碳薄膜及C-N键合机理研究

2005年 基础理论
  • 成果简介
本研究选用脉冲激光沉积技术、等离子体增强冲激光沉积技术等技术对晶态CN化合物薄膜进行了制备，采用光发射谱技术、Monte Carlo模拟技术分析了等离子中的主要反应过程及主要粒子的运动分布规律，对晶态薄膜生长机理进行了系统研究，探讨了提高晶态氮化碳薄膜中N含量的可行性途径，分析得到了S湛表面碳薄膜的生长模式，揭示了氮化碳薄膜特性和等离子反应过程之间的联系，通过金刚石研磨和Fe催化剂等技术探...
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