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撞击流结晶器

2006年 应用技术
  • 成果简介
由溶液生产晶体产品技术装备(中国专利号Chinese Patent ZL No 03235520.3)流动结构与立式循环撞击流反应器有某些相似。利用撞击流促进微观混合的优越性质，可控制适当且均匀的过饱和度，从而可制得粗大均匀的结晶体；实验结果还证明撞击流可以提高结晶成长速度。该结晶器适用于冷却结晶、蒸发结晶和反应结晶。可以间歇、也可以连续操作。本室可承担结晶器系统设计，提供不同规格发结晶器...
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