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氮化铝半导体薄膜的光学特征研究

2006年 应用技术
  • 成果简介
氮化铝和氮化镓、氮化铟等都属于宽禁带的Ⅳ族化合半导体。AIN为直接带隙,禁带宽度(Eg)为6.2eV,是目前Ⅳ族氮化物半导体中禁带宽度最大的材料,具有六角纤锌矿晶体结构。
近年来的研究表明,以上这些材料形成连续变化的固溶体ALGaN具有高的键强度,良好的热稳定性和高的击穿电压等性能,是制造高温、高频和短波长光电器件的极好的材料。蓝色发光管的研究成功,使半导体器件可以发射...
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